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ASML EUV搅局半导体设备供应链 这些厂商压力山大

2019-06-05 14:15 出处:未知 人气: 评论(

ASML股票在1月17日上涨了7%,以199.18收盘,因为ASML公布了过去12个月的季度销售情况,为30.7亿美元,实现同比增长53%,超过其预期的25.2亿美元。ASML实现了7.7亿美元的利润,远超出了5.44亿美元的分析目标。

与此同时,Lam Research股票上涨7.7%至205.08,应用材料上涨5.2%至57.34,KLA Tencor上涨5.4%至113.49。

首先,我将先对ASML主宰光刻行业进行介绍;然后,对我的观点ASML盈利表现良好对Lam Research、应用材料、KLA Tencor是不利的,进行解读。

对于逻辑器件、存储器件等主流IC行业,可以利用不同技术实现10nm以下工艺的光刻设备商只有三家:

荷兰ASMLEUV(极紫外光)光刻

日本尼康浸没式DUV(深紫外光)光刻

日本佳能纳米压印光刻(NIL)

最初,这三家企业都是从制造传统光学光刻设备起家,其技术可追溯二十世纪八十年代。随着摩尔定律的演进,它们的产品也在发生变化。如图1所示,有多种技术可用于在晶圆表面上复制光掩模。

ASML EUV搅局半导体设备供应链 这些厂商压力山大

2016年,ASML、尼康与佳能在不同行业起到了领导性作用。图2是I-line stepper市场份额情况,I-line stepper可为所有类型光刻工具提供最低分辨率,售价在4~6百万美元。出售的79种工具中,大部分是升级版,因为它们的鼎盛时期在1990年初,但它们仍然被应用于需要低分辨率的应用场景中。

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